8797威尼斯老品牌

姓名:刘广宇

邮箱:gyliu_liugy@163.com 办公地址:产教融合大楼B座6楼

姓名:刘广宇 职称:讲师

通讯地址:湖北省武汉市长江新区平江东路630

研究方向:

1. 存算融合忆阻器(半导体器件)

2. 光电融合忆阻器(光电子器件)

3. 忆阻器安全应用(器件及应用)

教育背景:

2010-092014-06 西安交通大学-电子科学与技术-学士

2014-092019-06 中国科学院大学-微电子学与固体电子学-博士

工作履历:

2019-072024-07 长江存储控股集团-器件工程部-Principal Engineer

2024-072025-08 湖北大学-微电子学院-讲师

2025-08 至今 湖北大学-8797威尼斯老品牌-讲师

2025-11 至今 湖北大学-8797威尼斯老品牌-院务助理

学术兼职:

APL, JAP, SSE等期刊审稿人

湖北江城实验室学术科学家

荣誉奖励:

光谷3551人才计划”优秀青年人才

术成果:

1. G Liu, L Wu, Z Song, et al. Threshold switching in SiGeAsTeN chalcogenide glass prepared by As ion implantation into sputtered SiGeTeN film[J]. Applied Physics Letters, 2017, 111(25):252102.

2. G Liu, L Wu, Z Song, et al. Heterogeneous nucleus-induced crystallization for high-speed phase change memory applications[J]. Applied Physics Letters, 2019, 115:133505.

3. G Liu, L Wu, Z Song, et al. Increasing Trapped Carrier Density in Nanoscale GeSeAs Films by As Ion Implantation for Selector Devices in 3D-Stacking Memory[J]. ACS applied nano materials, 2019, 2:5373-5380.

4. G Liu, L Wu, Z Song, et al. The investigations of characteristics of Sb2Te as a base phase-change material[J]. Solid-State Electronics, 2017, 135:31-36.

5. G Liu, L Wu, Z Song, et al. The investigations of characteristics of GeSe thin films and selector devices for phase change memory[J]. Journal of Alloys and Compounds, 2019.

6. Y Jin, C Liu, G Liu* et al. Image encryption and decryption utilizing physical unclonable function-based key generator by Ta/WTiOx/Pt memristor array, AIP Advances, 2026, 16(2): 025036.

授权专利:

1. 刘广宇、宋志棠、吴良才、封松林. Ge-Se-Al OTS材料、OTS选通器单元及其制备方法,申请号:201611262613.8 已授权CN 106601911 B

2. 刘广宇、刘峻、杨海波、彭文林、付志成. 相变存储器,申请号:CN202110729313.0 (已授权CN113451357B)

3. 刘广宇、刘峻、徐丽、杨海波、彭文林、付志成. 相变存储器,申请号:CN202222315935.1 已授权CN218447235U

4. 吴良才、刘广宇、宋志棠、封松林. 一种选通管材料、选通管单元及其制作方法,申请号:201611151825.9已授权CN 106601907 B

5. 章思帆、吴良才、刘广宇、宋志棠、宋三年. Al-Sc-Sb-Te相变材料、相变存储器单元及其制备方法,申请号:CN201910466004.1 (已授权CN110148668B)

6. 彭文林、刘峻、杨海波、刘广宇、付志成、李松. 一种测试系统,申请号:CN202123127647.5 (已授权CN217086138U)

7. 彭文林、刘峻、杨海波、付志成、刘广宇. 一种磁存储器及其制备方法,申请号:CN202110406826.8 (已授权CN113299822B)

8. 彭文林、刘峻、杨海波、付志成、刘广宇. 相变存储器及其制作方法,申请号:CN202110350652.8 (已授权CN112951876B)


地址:湖北省武汉市长江新区平江东路630号

邮政编码:430415


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